L
lotoy
Guest
Я хочу модель спирали индуктора в процессе UMC .18 с asitic, где существует
нет эпитаксиального слоя.поэтому я полагаю, что толщина слоя эпи 1e-10,
и диэлектрической
И сопротивление эпи были же, как и значения в subtrate.
но (1) Существуют некоторые различия между измеренными характеристикам, указанным в
ДПК и имитируемых них я получаю от asitic.Например:
********** W (мкм) * D (мкм, внутренний диаметр) * N * S (мкм) * индуктивность (NH 2.4g) * Q
измеренная ** 20 ***** 238 ************** 1,5 ** 2 ***** 1,294 ********* 7,686
имитируемых ************************************** 1,169 ********* 10.94
Является ли это явление нормальное или право?Я использовать метод для повышения индуктивности, таких, как добавление 0.4e-10um металлический слой в местах, как эпи экранирования,
но имеют незначительное влияние.
(2) Я нахожу БПФ размерности и чип размером в начале технологии файл будет влиять на качество и индуктивность фактор.Как я могу установить их ценности?
Благодарим Вас заранее!!
привет
нет эпитаксиального слоя.поэтому я полагаю, что толщина слоя эпи 1e-10,
и диэлектрической
И сопротивление эпи были же, как и значения в subtrate.
но (1) Существуют некоторые различия между измеренными характеристикам, указанным в
ДПК и имитируемых них я получаю от asitic.Например:
********** W (мкм) * D (мкм, внутренний диаметр) * N * S (мкм) * индуктивность (NH 2.4g) * Q
измеренная ** 20 ***** 238 ************** 1,5 ** 2 ***** 1,294 ********* 7,686
имитируемых ************************************** 1,169 ********* 10.94
Является ли это явление нормальное или право?Я использовать метод для повышения индуктивности, таких, как добавление 0.4e-10um металлический слой в местах, как эпи экранирования,
но имеют незначительное влияние.
(2) Я нахожу БПФ размерности и чип размером в начале технологии файл будет влиять на качество и индуктивность фактор.Как я могу установить их ценности?
Благодарим Вас заранее!!
привет